產(chǎn)品概述

　　磁控濺射鍍膜儀是一款高性能的薄膜沉積設(shè)備，采用磁控濺射技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)高沉積速率，廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)和材料科學(xué)領(lǐng)域的薄膜制備。此設(shè)備適用于大規(guī)模生產(chǎn)，并且具有較好的膜層均勻性和附著力，特別適合要求較高膜層質(zhì)量的應(yīng)用場合。

　　技術(shù)參數(shù)：

　　1、工作壓力范圍：5×10? ?Pa至5×10? 3Pa

　　2、氣體配置：2組，6英寸，氣角度可調(diào)節(jié)

　　3、工作電流范圍：0.1A至100A，射頻功率穩(wěn)定性≤5%

　　4、加熱溫度：室溫至300℃，并具備向下兼容的能力