產品概述

　　熱蒸發(fā)鍍膜儀是一款高精度的實驗室熱蒸發(fā)鍍膜設備，適用于實驗室及小規(guī)模生產。該設備操作簡便，專為高質量薄膜的制備而設計，能提供高均勻性和較高的純度鍍膜效果。

       由于采用了先進的熱蒸發(fā)技術，能夠在高真空環(huán)境下，控制鍍膜的質量和厚度，適用于金屬、半導體及其他材料的鍍膜需求。

　　技術參數：

　　1、工作壓力范圍：4×10? ?Pa

　　2、真空泵啟動時間：30分鐘，達到5×10? ?Pa的真空環(huán)境

　　3、薄膜厚度均勻性：薄膜厚度的均勻性為±3%，較大偏差為±5%

　　4、膜層厚度控制精度：5%

　　5、鍍膜速度：每小時12小時≤5Pa

　　6、操作時間：可調時間為0-30分鐘